Zusammenfassung

Das Fraunhofer-Institut FEP entwickelt plasmagestützten Beschichtungsverfahren für die industrielle Produktion und die Beschichtung großer Flächen. Die Kernkompetenz umfasst die PVD-Verfahren plasmaaktivierte Hochratebedampfung und Puls-Magnetron-Sputtern sowie PECVD-Verfahren zur plasmaaktivierten chemischen Dampfphasenabscheidung mit verschiedenen leistungsfähigen Plasmaquellen.

Vorteile und Stärken der Innovation

Eine wesentliche Alleinstellung dieser Innovation ist die Kombination von äußerst dichten Plasmen mit sehr hohen Beschichtungsraten für die wirtschaftliche Abscheidung von qualitativ hochwertigen Schichten.

Die Verbindung von Wirtschaftlichkeit mit Präzision hinsichtlich Prozessführung und Schichteigenschaften ermöglicht neue Anwendungen. Dies wiederum ermöglicht die Aufbringung von optischen, elektrischen, akustisch oder magnetisch wirksamen Schichten und Schichtsysteme mit hoher Qualität und geringer Fehlstellenzahl.

Durch Kombination von präzise einstellbaren und langzeitstabilen Prozessen mit einer exakten Substratbewegung und einer optischen in-situ-Monitorierung können reproduzierbare Schichteigenschaften und präzise Schichtdicken gewährleistet werden. Zusätzlich wird für diese Beschichtungsverfahren die zur Sicherung der Schichthaftung notwendigen Reinigungsverfahren, Plasmavorbehandlungen bis hin zu passgenauen Schlüsselkomponenten wie Elektronenstrahlquellen oder Magnetrons entwickelt.

Anwendungsbereich

Plasmagestützte Beschichtungsverfahren erlauben die Herstellung maßgeschneiderter Schichten für viele Anwendungsbereiche.

Kontakt

Entwicklung von:  Fraunhofer-Institut für Organische Elektronik, Elektronenstrahl- und Plasmatechnik FEP

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